目前制造7nm以下，全部采用光刻技術(shù)。而EUV光刻機(jī)，則是制造7nm以下芯片，必不可少的設(shè)備，全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)，最便宜的EUV光刻機(jī)，都需要1.5億歐元左右一臺(tái)。
而像三星、臺(tái)積電、intel等，眾多的芯片廠，都是從ASML那搶購(gòu)EUV光刻機(jī)，可見(jiàn)這個(gè)市場(chǎng)，目前還是賣方市場(chǎng)，不是買方市場(chǎng)。
在這樣的情況之下，其它設(shè)備廠商，也是蠢蠢欲動(dòng)，想要生產(chǎn)出與EUV抗衡的設(shè)備來(lái)，但生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，則不太現(xiàn)實(shí)，因?yàn)橐恍┖诵墓?yīng)鏈、專利等，都被ASML壟斷了。
所以其它廠商，都是通過(guò)其它辦法，來(lái)生產(chǎn)類似于EUV的光刻機(jī)，制造5nm芯片。
比如佳能，就走的是納米壓印這條路，納米壓印技術(shù)的原理很簡(jiǎn)單，就像蓋章一樣，第一步先雕刻一個(gè)圖章出來(lái)，下一步拿這個(gè)圖章，直接印到硅晶圓上，就形成了電路圖。
只要這個(gè)圖章不磨損，就可以一直蓋章蓋下去，看起來(lái)確實(shí)簡(jiǎn)單很多，原理也簡(jiǎn)單。
去年的時(shí)候，佳能正式發(fā)布了全球首款NIL系統(tǒng)FPA-1200NZ2C，表示這臺(tái)設(shè)備，可以制造最小線nm的芯片，從工藝制程來(lái)看，也就是5nm。
而近日，佳能的這個(gè)設(shè)備，正式出貨了，第一個(gè)客戶是美國(guó)德克薩斯州的半導(dǎo)體聯(lián)盟德克薩斯電子研究所 （TIE）。
按照佳能的說(shuō)法，這種NIL納米壓機(jī)，其售價(jià)只有EUV光刻機(jī)的10%左右，大約也就是1500萬(wàn)歐元。而使用NIL設(shè)備來(lái)制造芯片，一整套設(shè)備的成本，相比于EUV光刻機(jī)生產(chǎn)線%。
看起來(lái)似乎便宜很多，優(yōu)勢(shì)明顯，但其實(shí)NIL納米壓印的缺點(diǎn)也非常明顯，一是生產(chǎn)效率不高，其產(chǎn)能，無(wú)法和EUV光刻機(jī)相比，如果像臺(tái)積電這種大規(guī)模制造芯片，很難實(shí)現(xiàn)。
另外就是使用NIL設(shè)備來(lái)制造芯片，幾乎整套設(shè)備生產(chǎn)線，都要換掉，和EUV生產(chǎn)線不兼容。
所以，目前真正愿意使用NIL生產(chǎn)線來(lái)制造芯片的廠商，并不多，因?yàn)橛羞@個(gè)能力制造5nm芯片的廠商，之前的生產(chǎn)線，大多都是基于EUV的，全部換掉，不太現(xiàn)實(shí)。
所以購(gòu)買佳能NIL設(shè)備的，主要是一些研究機(jī)構(gòu)，大家也沒(méi)有大規(guī)模生產(chǎn)芯片的需求，更多的的研究需要。
當(dāng)然，中國(guó)其實(shí)是有機(jī)會(huì)成為佳能NIL設(shè)備的最大客戶的，畢竟我們買不到EUV,也沒(méi)有EUV生 線開(kāi)始的建設(shè)NIL生產(chǎn)線，非常合適，但因?yàn)榻睿涯懿荒苜u給中國(guó)，真是遺憾。